Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
Sparad:
| Sonstige: | |
|---|---|
| Utgivningsår: | 2020 |
| Språk: | English |
| Fysisk beskrivning: | 1 electronic resource (142 p.) |
| Taggar: |
Lägg till en tagg
Inga taggar, Lägg till första taggen!
|
Systemet under underhåll
Bibliotekssystemet är närvarande under underhåll.
Tillgänglighetsinformation kan inte visas för tillfället. Vi beklagar störningen. Kontakta oss om problemet kvarstår:
Elektronisk
| DOAB Directory of Open Access Books | Tillgänglig |