Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
Guardat en:
| Sonstige: | |
|---|---|
| Any de publicació: | 2020 |
| Idioma: | English |
| Descripció física: | 1 electronic resource (142 p.) |
| Etiquetes: |
Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|
Sistema fora de servei per tasques de manteniment
El catàleg està fora de servei temporalment per tasques de manteniment
La informació de disponibilitat dels exemplars no està disponible en aquests moments, sentim les inconveniències:
Electrònic
| DOAB Directory of Open Access Books | Disponible |