Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
Zapisane w:
| Sonstige: | |
|---|---|
| Rok wydania: | 2020 |
| Język: | English |
| Opis fizyczny: | 1 electronic resource (142 p.) |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|
Elektroniczne
| DOAB Directory of Open Access Books | Dostępne |