Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
محفوظ في:
Sonstige: | |
---|---|
سنة النشر: | 2020 |
اللغة: | English |
وصف مادي: | 1 electronic resource (142 p.) |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
الكتروني
DOAB Directory of Open Access Books | متاح |